[发明专利]用于X射线成像的高亮度KLu2 在审
| 申请号： | 201911313857.8 | 申请日： | 2019-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN110982529A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 杨玺;崔珍珍;张明宇;章皓;黎浩;徐旭辉;余雪;邱建备 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C09K11/85 | 分类号： | C09K11/85 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明公开了一种用于X射线成像的高亮度KLu |
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| 搜索关键词： | 用于 射线 成像 亮度 klu base sub | ||
【主权项】：
暂无信息
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