[发明专利]一种基于FDSOI器件背栅结构的静态随机存取存储器在审

专利信息
申请号: 201911315992.6 申请日: 2019-12-19
公开(公告)号: CN111145810A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 赵彤;王昌锋;田明;孙亚宾;李小进;石艳玲;廖端泉;曹永峰 申请(专利权)人: 华东师范大学;上海华力微电子有限公司
主分类号: G11C11/418 分类号: G11C11/418;G11C11/419
代理公司: 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种基于FDSOI器件背栅结构的静态随机存取存储器(SRAM),该新型静态随机存取存储器上所有的晶体管为FDSOI器件,器件的背栅与字线WL相连。在SRAM进行读写操作时,字线为高电平,使得PMOS阈值电压增大,NMOS阈值电压减小,从而加强了SRAM的写入能力,提高了读取电流;在保持状态下,字线WL为低电平,本发明的SRAM上的器件阈值电压与传统FDSOI SRAM上器件的阈值电压并无差异,因此静态功耗不变。
搜索关键词: 一种 基于 fdsoi 器件 结构 静态 随机存取存储器
【主权项】:
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