[发明专利]一种用于ECC双轴受压分析的本构模型构建方法有效
申请号: | 201911316094.2 | 申请日: | 2019-12-19 |
公开(公告)号: | CN111027254B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 陈静芬;陈善富;杨凤祥;刘志明 | 申请(专利权)人: | 暨南大学 |
主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23;G06F30/13;G16C60/00;G06F119/14 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 陈宏升 |
地址: | 510632 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开的一种用于ECC双轴受压分析的本构模型构建方法,包括建立用于描述ECC双轴力学行为的二维增量型正交各向异性本构关系;建立ECC非线性压缩应力应变曲线;引入用于预测双轴受压时抗压强度变化的ECC双轴强度包络线,计算不同双轴受压应力状态下的ECC抗压强度;进行等效单轴抗压应变计算,进而推导本构模型的数值计算方法,并编写用户自定义材料子程序,将用户自定义材料子程序嵌入有限元软件中用于ECC双轴受压分析;本发明同时考虑了ECC在双轴受压时的非线性应力应变关系和不同双轴应力比下ECC抗压强度的变化,能更准确地描述ECC双轴受压状态下的力学行为。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 ecc 受压 分析 模型 构建 方法 | ||
【主权项】:
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