[发明专利]量子点光刻胶及其制备方法、显示基板和显示装置在审
| 申请号： | 201911316397.4 | 申请日： | 2019-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN110989296A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 石戈;祝明;方正;张世玉;杨松;刘玉杰;王宇瑶;韩佳慧;孙艳六;陈小川;董学 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/032;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 刘伟;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种量子点光刻胶及其制备方法、显示基板和显示装置，属于显示技术领域。其中，量子点光刻胶，包括：3‑20wt％的量子点；0.5‑10wt％的散射粒子；10‑50wt％的光聚合性单体化合物；0.05‑2wt％的光聚合引发剂；10‑50wt％的碱可溶性树脂；1‑30wt％的溶剂。本发明的技术方案能够提高量子点彩膜的发光均匀性、发光稳定性和发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 光刻 及其 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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