[发明专利]制造包括多个二极管的光电装置的方法在审

专利信息
申请号: 201911317363.7 申请日: 2019-12-19
公开(公告)号: CN111341802A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 佩林·巴图德;休伯特·博诺 申请(专利权)人: 原子能与替代能源委员会
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 王小衡;胡彬
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本说明涉及一种制造光电装置的方法,包括步骤:a)提供有源二极管叠层(100),其包括第一导电类型的第一掺杂半导体层(103)和第二导电类型的第二掺杂半导体层(107),对所述第一层的上表面进行涂敷;b)在所述有源叠层(100)的上表面上布置第三半导体层(115);c)在步骤b)之后,在所述第三半导体层(115)的内部和顶部形成至少一个MOS晶体管;以及d)在步骤b)之后,在步骤c)之前或之后,形成从所述第三层(115)的上表面垂直延伸并露出在所述第一层(103)的上表面中或上的、并且界定了多个像素的沟槽(130),每个像素包括二极管和基本二极管控制单元。
搜索关键词: 制造 包括 二极管 光电 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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