[发明专利]一种零偏压工作石墨烯光电器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911317964.8 申请日: 2019-12-19
公开(公告)号: CN110957396B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 申钧;高恺聪;杨旗;韩钦;冯双龙;周大华;魏兴战;史浩飞 申请(专利权)人: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/10
代理公司: 北京元本知识产权代理事务所(普通合伙) 11308 代理人: 黎昌莉
地址: 400714 重庆市北*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明一种零偏压工作石墨烯光电器件及其制备方法,包括以下步骤:(1)利用化学气相沉积法生长制备石墨烯薄膜;(2)转移所述石墨烯薄膜至预先制备的氧化衬底表面;(3)在所述石墨烯薄膜表面图案化形成石墨烯条带结构;(4)在所述石墨烯条带结构的两端沉积金属形成两个金属电极;(5)在所述石墨烯条带结构表面进行量子点图案化。通过此制备方法得到的一种能在没有外接偏压下工作的石墨烯光电器件,有效避免石墨烯光电器件在偏压下工作时会产生极大的暗电流,影响器件的寿命和测量精度的问题,通过将量子点精确的覆盖在我们想要的区域,工艺流程简单,与半导体微纳技术紧密结合,具有很强的实用性。
搜索关键词: 一种 偏压 工作 石墨 光电 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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