[发明专利]一种原位再生氧化耦合可渗透反应墙工艺在审
| 申请号： | 201911324757.5 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111620427A | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 张礼知;胡月;刘晓;彭星;万艳艳;廖敏子 | 申请（专利权）人： | 华中师范大学 |
| 主分类号： | C02F1/72 | 分类号： | C02F1/72;C02F1/70;C02F101/32;C02F101/36;C02F103/06 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 裴金华 |
| 地址： | 430000 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开的一种原位再生氧化耦合可渗透反应墙工艺，在填充有零价铁的可渗透反应墙反应区内置入用于注入铁循环调节剂或氧化剂的通道，再生氧化耦合型可渗透反应墙，提高可渗透反应墙的使用年限，同时扩充对污染物的处理种类。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原位 再生 氧化 耦合 渗透 反应 工艺 | ||
【主权项】：
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