[发明专利]改变光刻侧壁形貌的灰度掩模图形

摘要

本发明公开了一种改变光刻侧壁形貌的灰度掩模图形，在掩膜版上形成用于光刻形成沟槽或者台阶的灰度掩膜图形，所述灰度掩膜图形在平面内具有互相垂直的第一方向及第二方向，在掩膜版上用于形成沟槽侧壁形貌的掩膜区域沿第二方向设置多行及多列的方形孔结构阵列，所述的方形孔结构阵列位于灰度掩膜版上形成沟槽的两侧壁区域；所述方形孔结构阵列中位于同一列上的方形孔具有相同的尺寸，位于不同列的方形孔具有不同的尺寸，且以沟槽中心向两侧方向上不同列的方形孔的尺寸逐渐缩小。本发明通过设置不同的方形孔尺寸，以及方形孔之间的行间距以及列间距，实现了形成不同角度沟槽侧壁的目的，且能通过不同参数使沟槽侧壁的形貌更加平整。