[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201911327408.9 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN113004801A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 郁夏盈;王晨;何华锋;李星;史经深;孙金涛 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04;C23F11/14 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、含有腺嘌呤有机酸结构的腐蚀抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂。不仅可以同时抛光金属钨、氧化硅，实现对钨金属保持较高的抛光速率、且对氧化硅保持中等的抛光速率、且高效抑制钨金属的静态腐蚀，改善抛光后的金属表面状况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
暂无信息
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