[发明专利]新型耐用的阳极层离子源在审
| 申请号： | 201911327710.4 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN110867366A | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | 姜翠宁;徐从高 | 申请（专利权）人： | 广东生波尔光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05K7/20 |
| 代理公司： | 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327 | 代理人： | 石仁 |
| 地址： | 528400 广东省中山市板芙*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请属于离子源辅助镀膜的技术领域，尤其涉及新型耐用的阳极层离子源。所述基座上安装腔、所述基座上端面上设有外阴极和内阴极，且所述外阴极和内阴极与阳极之间留有间隙，所述安装腔内还设有均气座，所述均气座上设有若干等间隔设置且与间隙连通的导气孔，通过增加均气座的结构，使得工艺气体进入到工作的空间前，需要经过均气座上的导气孔，而通过多个等间距设置的导气孔相当于将工艺气体均匀分散，从而使其更均匀的进入到阴极和阳极之间的间隙中，实现其均匀布满工艺气体，达到离子源工作时等离子浓度均衡稳定，使得镀膜的质量更稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 耐用 阳极 离子源 | ||
【主权项】：
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