[发明专利]一种引入表面缺陷的三氧化二铋半导体光催化剂及其改性方法和应用在审

专利信息
申请号: 201911328219.3 申请日: 2019-12-20
公开(公告)号: CN110975858A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 县涛;孙小锋;邸丽景;李红琴;周永杰 申请(专利权)人: 青海师范大学
主分类号: B01J23/18 分类号: B01J23/18;B01J37/16;C02F1/30;C02F101/30
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 马云华
地址: 810008 青*** 国省代码: 青海;63
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种引入表面缺陷的三氧化二铋半导体光催化剂及其改性方法和应用,涉及光催化技术领域。本发明提供的改性方法,包括以下步骤:将三氧化二铋光催化剂和NaBH4溶液混合进行还原反应,得到引入表面缺陷的三氧化二铋半导体光催化剂。本发明将三氧化二铋光催化剂和NaBH4溶液混合进行还原反应,在三氧化二铋光催化剂表面引入缺陷,提高了三氧化二铋半导体光催化剂对光生电荷的俘获效率,有效地抑制光生电荷的复合,为光催化反应提供更多可利用的光生电荷,从而提高了光催化效率。
搜索关键词: 一种 引入 表面 缺陷 氧化 半导体 光催化剂 及其 改性 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
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