[发明专利]单晶炉及单晶硅制备方法在审
申请号: | 201911335647.9 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN110983429A | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 蒲以松;惠聪 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
主分类号: | C30B15/14 | 分类号: | C30B15/14;C30B15/20;C30B29/06 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种单晶炉及单晶硅制备方法,属于半导体技术领域。单晶炉,包括:炉体;位于所述炉体内的石墨坩埚;位于所述石墨坩埚内的石英坩埚,所述石英坩埚用于盛装待熔化的多硅晶料;与所述炉体同轴、圆筒状的侧石墨加热器,套设在所述石墨坩埚外侧;设置在所述石墨坩埚底部的下石墨加热器;位于所述石英坩埚上方的导流筒;位于所述石英坩埚和所述导流筒之间的上加热器;位于所述导流筒的上端外侧、且位于所述侧石墨加热器上方的上保温罩;设置在所述上保温罩上方的保温盖;设置在所述保温盖与所述炉体的内壁接触位置处的圆形环状石墨件。本发明能够提供均匀可控的热环境,加快传热效率,提高单晶硅棒的产率,保证所拉制单晶硅棒的质量。 | ||
搜索关键词: | 单晶炉 单晶硅 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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