[发明专利]一种氧化镓基紫外发光二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911336526.6 申请日: 2019-12-23
公开(公告)号: CN111048636A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 孙智江;王书昶;冯源;穆久涛;张哲 申请(专利权)人: 江苏如高第三代半导体产业研究院有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/02;H01L33/04;H01L33/00
代理公司: 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 代理人: 徐文;万小侠
地址: 226500 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种氧化镓基紫外发光二极管及其制备方法,包括由下至上依次设置的蓝宝石衬底、AlN成核层、Ga2O3缓冲层、n型Ga2O3层、Ga2O3/GaN量子阱有源区、p型AlN/Ga2O3超晶格结构电子阻挡层、p型Ga2O3层和氧化铟锡透明导电层,在氧化铟锡透明导电层上引出p型欧姆电极,在n型Ga2O3层上引出n型欧姆电极。本发明的优点在于:由于p型AlN/Ga2O3超晶格结构具有高吸收系数、高横向载流子迁移率,对载流子具有强的量子限制效应,作为电子阻挡层能够有效抑制电子溢出有源区;另外,采用p型Ga2O3层,能够极大地增加p型区的空穴浓度,降低空穴激活能,提高空穴注入效率,从而提高载流子在有源区的复合效率。
搜索关键词: 一种 氧化 紫外 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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