[发明专利]基于化学气相沉积的均匀材料层制备方法

摘要

本发明提出了一种基于化学气相沉积的均匀材料层制备方法，包括：将衬底及载物台放置在反应腔中，所述衬底设置在所述载物台上，所述衬底的生长面背离于所述载物台；向所述反应腔内提供第一气相源物质及第二气相源物质，在所述生长面上形成材料层。本发明提供的基于化学气相沉积的均匀材料层制备方法，将衬底及载物台放置在反应腔中，衬底的生长面背离于载物台，而后向反应腔内提供第一气相源物质与第二气相源物质进行化学气相沉积反应，在衬底的生长面上形成材料层。通过将衬底的生长面背离于载物台，本发明衬底的生长面上气流流速分布更为均匀，从而能够大大提高材料层的均匀性，能够大大提高材料层的质量。