[发明专利]一种ZnO薄膜结构及其制备方法在审
申请号: | 201911337264.5 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN111118450A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 石梦;毛海央;陈贵东;陈大鹏 | 申请(专利权)人: | 无锡物联网创新中心有限公司 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/35;B05D7/24;C09D179/08;G01N33/00 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 寇海侠 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新吴区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种ZnO薄膜结构,包括,衬底,设置在衬底上的纳米森林以及沉积在纳米森林上的ZnO层。本发明还公开了上述ZnO薄膜的制备方法,首先选取衬底,在衬底上涂覆聚合物层,然后形成纳米森林结构,最后在所述纳米森林结构上沉积ZnO层。本发明提供的ZnO薄膜结构,和传统的ZnO薄膜相比,减少原料,降低成本,同时具备纳米森林本身高孔隙度、大比表面积的特点。本发明提供的ZnO薄膜结构的制备方法将磁控溅射法与纳米森林制备工艺相结合,可以通过参数控制,调整ZnO薄膜结构中的薄膜厚度、形貌、生长方向和密度,工艺简单,操作方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 zno 薄膜 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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