[发明专利]一种非接触自动中心对准套刻投影光刻机在审
申请号: | 201911338127.3 | 申请日: | 2019-12-23 |
公开(公告)号: | CN111025855A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 刘俊伯;冯金花;赵立新;杜婧;胡淘 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种非接触自动中心对准套刻的投影光刻机。该投影光刻机主要基于多个民生领域对温度、压力、电容、应变等传感芯片的巨大需求,填补国内传感芯片专用投影光刻机的空白。该设备不仅能完成多图层套刻,还能完成图形与基片外缘的高精度套刻,即中心对准套刻,满足传感芯片生产需求。该非接触自动中心对准套刻的投影光刻机有效光刻分辨可达2μm;外形套刻精度:优于±3μm;图形套刻精度:优于±500nm;并行对准基片数量:>100片;生产效率:>1000片/小时。 | ||
搜索关键词: | 一种 接触 自动 中心 对准 投影 光刻 | ||
【主权项】:
暂无信息
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