[发明专利]一种基于范德瓦耳斯力结合的GaAs/InGaN二结太阳电池结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911338817.9 申请日: 2019-12-23
公开(公告)号: CN111081805B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 李国强;余粤锋;刘兴江;高鹏;张志杰;林静 申请(专利权)人: 华南理工大学;中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/07 分类号: H01L31/07;H01L31/0304;H01L31/0216;H01L31/18
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;江裕强
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于太阳电池领域,公开了一种基于范德瓦耳斯力结合的GaAs/InGaN二结太阳电池结构及其制备方法。所述太阳电池包括由下至上依次层叠的Au背电极、GaAs外延层、第一石墨烯层、Au纳米颗粒层、第二石墨烯层,InGaN纳米柱阵列层、第三石墨烯层、Al2O3减反射层及在外围设置Au顶电极与第三石墨烯层接触。本发明利用能够发生等离激元效应的Au纳米颗粒层/Graphene复合表面作为子结结合结构,既提高整体光利用率,也实现了极高导电的子结间界面,从而提高GaAs太阳电池的转化效率。
搜索关键词: 一种 基于 范德瓦耳斯力 结合 gaas ingan 太阳电池 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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