[发明专利]光刻胶分配模块、涂敷系统及在晶圆上旋涂光刻胶的方法在审
| 申请号： | 201911340869.X | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN111352302A | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 林钟吉;张成根 | 申请（专利权）人： | 夏泰鑫半导体（青岛）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 李艳霞;唐芳芳 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶分配模块，用于将光刻胶溶液分配到晶圆上。光刻胶分配模块包括第一喷嘴、第二喷嘴以及联接至第一喷嘴和第二喷嘴的光刻胶管道组件。第一喷嘴配置成将光刻胶溶液分配给晶圆的第一部分。第二喷嘴配置成将光刻胶溶液分配给晶圆的第二部分。光刻胶管道组件配置成向第一喷嘴和第二喷嘴供应光刻胶溶液。本发明还提供一种具有光刻胶分配模块的光刻胶涂敷系统及在晶圆上旋涂光刻胶的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 分配 模块 系统 晶圆上旋涂 方法 | ||
【主权项】：
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