[发明专利]一种平面串联耐高压二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911344891.1 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN111081786B 公开(公告)日: 2023-09-29
发明(设计)人: 梁存宝;杜永超;铁剑锐;王鑫;孙希鹏;李晓东 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所;天津恒电空间电源有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/16;H01L29/06;H01L21/329;H01L31/044
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 李潇
地址: 300384 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种平面串联耐高压二极管及其制备方法,所述二极管包括:衬底、浅磷扩散层、深硼扩散层、深磷扩散层、氧化隔离层、电极层和电极焊点。本申请提供的一种平面串联耐高压二极管及其制备方法,采用了Si(i)本征材料,增大了底部电阻,降低了结区外的漏电的发生,降低二极管的反向漏电流;并使用了磷隔离环的设计,减小了二极管边缘漏电,也起到了降低了二极管的反向漏电流的作用;在避免互连电极与二极管短路方面,采用了氧化隔离技术设计;结构设计中,每个单体二极管采用了大面积PN区,降低了二极管的正向导通电阻;通过串联结构将2个或多个二极管首尾连接,增大了反向结区电阻,起到了器件反向高耐压的效果。
搜索关键词: 一种 平面 串联 高压 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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