[发明专利]一种高抑制比光陷阱在审
| 申请号： | 201911350740.7 | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN111025614A | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 陈钦芳;薛要克;刘阳;林上民;刘美莹;马占鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G02B1/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 董娜 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高抑制比光陷阱，解决现有光陷阱对随机入射光和平行光无针对性，入射光难以满足高精度的杂散光测试需求，成本较高的问题。该光陷阱包括底面、平行设置的两个等腰直角三角形侧面、形状相同的第一反射面和第二反射面；底面、第一反射面、第二反射面、等腰直角三角形侧面内壁材均为黑色玻璃；底面、第一反射面、第二反射面依次尾首连接形成三角柱框架；两个等腰直角三角形侧面分别位于三角柱框架两侧开口处，形成密封腔室；底面上设有通光孔，该通光孔靠近第一反射面；经通光孔进入的平行光依次经第一反射面反射、第二反射面反射至底面，经底面反射回的光线再依次经第二反射面反射、第一反射面反射后从通光孔出射。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 陷阱 | ||
【主权项】：
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