[发明专利]一种大口径反射薄膜元件吸收型缺陷快速成像的方法在审

专利信息
申请号: 201911352599.4 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN111122599A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 李斌成;王静;赵斌兴;江海涛 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种基于光热失调技术的大口径反射薄膜元件吸收型缺陷快速成像的方法,采用调制高功率激光经准直扩束形成大尺寸激励光斑后对反射薄膜元件进行照射加热,薄膜的吸收型缺陷在样品表面产生周期性调制温度分布并导致缺陷区域反射率或透过率发生周期性变化。采用另一束一定波长的低功率激光束经准直扩束形成大尺寸探测光斑后以一定入射角照射到反射薄膜元件被加热激光束照射的相同区域,其薄膜反射或透射的探测激光束光场分布经光学成像系统成像到CCD靶面记录。对CCD记录的光场强度图像进行分析确定被照射区域吸收型缺陷及其相应特征。本方法极大地提高了单次探测面积,使通过扫描实现大口径反射薄膜元件吸收型缺陷分布的快速检测成为可能。
搜索关键词: 一种 口径 反射 薄膜 元件 吸收 缺陷 快速 成像 方法
【主权项】:
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