[发明专利]一种用于微波等离子体化学气相沉积装置的样品台结构在审
申请号: | 201911354430.2 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN110983298A | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 张威;金鹏;王占国;杜鹏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所;天津市海杰金属制品制造有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/511;C23C16/27 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴梦圆 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 一种用于微波等离子体化学气相沉积装置的样品台,其特征在于,该样品台呈圆柱状结构,上表面具有一凹曲面,该凹曲面具有至少一个凹槽,用于放置化学气相沉积所需的衬底或衬底托盘。所述样品台的上表面全部为凹曲面,或者所述样品台的上表面的中心位置为凹曲面且上表面的外缘位置为平面。本发明提供的样品台上表面采用曲面形设计,解决了样品台中间位置电场强度大、边缘电场强度小的问题。在微波等离子体化学气相沉积反应腔内进行多样品生长时,能有效提高各样品周围的电场及等离子体分布的均匀性,使得各样品能够以均匀的速率生长,改善多样品生长过程中材料的生长质量,提高微波功率利用率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 微波 等离子体 化学 沉积 装置 样品 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的