[发明专利]一种用于微波等离子体化学气相沉积装置的样品台结构在审

专利信息
申请号: 201911354430.2 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN110983298A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 张威;金鹏;王占国;杜鹏 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所;天津市海杰金属制品制造有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/511;C23C16/27
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴梦圆
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种用于微波等离子体化学气相沉积装置的样品台,其特征在于,该样品台呈圆柱状结构,上表面具有一凹曲面,该凹曲面具有至少一个凹槽,用于放置化学气相沉积所需的衬底或衬底托盘。所述样品台的上表面全部为凹曲面,或者所述样品台的上表面的中心位置为凹曲面且上表面的外缘位置为平面。本发明提供的样品台上表面采用曲面形设计,解决了样品台中间位置电场强度大、边缘电场强度小的问题。在微波等离子体化学气相沉积反应腔内进行多样品生长时,能有效提高各样品周围的电场及等离子体分布的均匀性,使得各样品能够以均匀的速率生长,改善多样品生长过程中材料的生长质量,提高微波功率利用率。
搜索关键词: 一种 用于 微波 等离子体 化学 沉积 装置 样品 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所;天津市海杰金属制品制造有限公司,未经中国科学院半导体研究所;天津市海杰金属制品制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911354430.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top