[发明专利]一种内透镜及制作方法在审
申请号: | 201911355336.9 | 申请日: | 2019-12-25 |
公开(公告)号: | CN111142176A | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 姚嫦娲 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G03F7/00;H01L27/146 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;张磊 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种内透镜及制作方法,制作方法包括以下步骤:在衬底上形成底层内透镜材料层;在底层内透镜材料层上形成光刻胶图形层;以光刻胶图形层为掩模,对底层内透镜材料层进行部分刻蚀,在底层内透镜材料层上形成第一个台阶层;对光刻胶图形层侧壁进行回刻,使第一个台阶层由光刻胶图形层的两侧部分露出;重复前述刻蚀步骤,在底层内透镜材料层上形成多个台阶层,使底层内透镜材料层具有台阶状的表面形貌;去胶清洗;在底层内透镜材料层上覆盖形成顶层内透镜材料层,形成内透镜结构。本发明工艺窗口较大,可采用常规半导体工艺方法实现,易于开发和管控。 | ||
搜索关键词: | 一种 透镜 制作方法 | ||
【主权项】:
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