[发明专利]一种基于子阵降维带约束的多域联合抗干扰方法有效
| 申请号： | 201911356211.8 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN111162878B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 佟力;王晓洪;谢伟;唐明;张涛;李富生;钟勇;余湋;吴仡 | 申请（专利权）人： | 成都天奥信息科技有限公司 |
| 主分类号： | H04L1/06 | 分类号： | H04L1/06;H04B7/08 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 熊曦 |
| 地址： | 610000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于子阵降维带约束的多域联合抗干扰方法，所述方法包括：根据目标信号方向生成子阵合成的方向向量；对接收的阵元信号进行预处理；基于预处理后的阵元信号以及子阵合成的方向向量，生成子阵信号；采用抗干扰算法对子阵信号进行运算，生成带约束指向的抗干扰权值。本方法在空域进行降维处理，采用阵元级进行子阵合成，从而实现空间维度进行降维处理的目的，进而降低空时联合处理矩阵维度，达到减小算法工程应用的难度，使得算法基于FPGA的设计可应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 子阵降维带 约束 联合 抗干扰 方法 | ||
【主权项】：
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