[发明专利]减小关键尺寸漂移的方法

摘要

本发明提供了一种减小关键尺寸漂移的方法，其特征在于，包括：设计多个测试光罩，每个所述测试光罩包含多个图形，多个所述测试光罩包含不同的多个图形；根据测试光罩图形上各组测试图形的周长和密度的关系，建立刻蚀预测模型；使用刻蚀预测模型上线生产，预测产品刻蚀的关键尺寸漂移；根据预测的关键尺寸漂移修正测试光罩的图形的周长和线宽。在掩膜板出版前，通过刻蚀预测模型与冗余图形填充相结合的方法，修正测试光罩的图形的周长和线宽，最后以修正后的测试光罩的图形出版掩膜板，快速解决刻蚀关键尺寸漂移的问题，避免了晶圆的返工率和废弃率，有利于刻蚀关键尺寸的稳定，改善刻蚀晶圆的均匀性。