[发明专利]一种单晶LiNbO3有效

专利信息
申请号: 201911364219.9 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN111063800B 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 帅垚;梁翔;王杰军;乔石珺;秦霞;杨小妮 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及离子刻蚀、氧气退火与忆阻器领域,尤其涉及一种单晶LiNbO3薄膜忆阻器及其制备方法。本发明通过Ar+刻蚀技术轰击固体表面使表面原子溅射而被逐层剥离使LiNbO的厚度更进一步的降低,同时引入忆阻器所需的氧空位。代替现有技术采用真空退火工艺引入氧空位的手段,并同时降低阈值电压。并且通过氧气氛围下的退火以修复材料表面氧空位一类的缺陷,让引入的氧空位减少,调节材料表面氧空位浓度。最终本发明解决了单晶薄膜忆阻器阈值较高的问题,同时优化了器件的保持力和耐久力。
搜索关键词: 一种 linbo base sub
【主权项】:
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