[发明专利]等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201911370597.8 | 申请日： | 2019-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN113053713B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 魏强;黄允文;郭盛 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李带娣 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体处理设备，其包括反应腔、基座、设备板、静电夹盘、射频杆、射频电源、绝缘管道和抗静电涂层；绝缘管道通过所述设备板上的通道连接所述冷却通道，用于输送绝缘液体；抗静电涂层，涂覆于所述绝缘管道的内壁和/或外壁，抗静电涂层包括抗静电剂，所述抗静电剂的浓度范围为1％～20％，所述抗静电涂层接地。通过设置抗静电涂层中抗静电剂的量，能够将抗静电涂层的电阻值设置为合理范围，在允许静电荷导出的同时，也能够满足不消耗射频部件的工作功率，进而兼顾释放冷却液管路静电和确保射频工作功率，大大提高了设备的使用安全。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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