[发明专利]一种可优化表面平整度的氮化铝单晶薄膜制备方法有效

专利信息
申请号: 201911373618.1 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111005072B 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 陈贵锋;谢路肖;张辉;张银;解新建;刘国栋 申请(专利权)人: 河北工业大学
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B25/18
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 万尾甜;韩介梅
地址: 300401 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明属于半导体薄膜材料技术领域,公开了一种可优化表面平整度的氮化铝单晶薄膜制备方法,该方法是以氮气为氮源,以铝颗粒作为铝源,在异质衬底上基于特制装置制得,整个制备过程分为五个阶段:首先控制源区和生长区同时加热至400~500℃,保温10~20分钟,接着控制源区温度升至1100~1400℃,生长区温度保持,保温10~20分钟,紧接着控制生长区温度升至1100~1200℃,源区温度不变,保温生长5~10分钟,紧接着源区温度1300~1400℃,生长区升温至1350~1550℃,保温1~3小时,各过程中调控氩气、氮气的通入比例,最后关闭氩气,冷却至室温后取出样品。本发明的方法生长氮化铝单晶薄膜不仅结晶质量高,表面较为平整且可获得自支撑薄膜,而且还具有成本低、生长速度快、无危险气体、绿色环保等优点。
搜索关键词: 一种 优化 表面 平整 氮化 铝单晶 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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