[发明专利]用于具有多个半导体器件层的半导体结构的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201911377215.4 申请日: 2014-07-31
公开(公告)号: CN111106133B 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 林以唐;蔡俊雄;万幸仁 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种具有多个半导体器件层的半导体结构。该半导体结构包括第一掩埋氧化物和制造在第一掩埋氧化物之上的第一半导体器件层。第一半导体器件层包括图案化的顶面。包括绝缘体材料的毯式层制造在图案化的表面上方。该半导体结构还包括接合至毯式层的第二掩埋氧化物和制造在第二掩埋氧化物之上的第二半导体器件层。本发明还涉及用于具有多个半导体器件层的半导体结构的系统和方法。
搜索关键词: 用于 具有 半导体器件 半导体 结构 系统 方法
【主权项】:
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