[发明专利]一种碳化硅外延生长设备的进气装置有效
申请号: | 201911379922.7 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111020693B | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 胡强;徐平;胡琅;侯立涛;冯杰;何斌;郭远军;李晓峰;黎天韵;侯少毅 | 申请(专利权)人: | 季华实验室 |
主分类号: | C30B25/14 | 分类号: | C30B25/14;C30B29/36 |
代理公司: | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人: | 陈志超;黄家豪 |
地址: | 528200 广东省佛山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种碳化硅外延生长设备的进气装置,包括进气装置主体,进气装置主体的前部设置有混合腔、后部设置有冷却腔;混合腔的前侧设置有进气管、后侧设置有多根出气管,出气管穿过所述冷却腔;还包括插接在进气装置主体前部并与冷却腔连通的冷却液入口管和冷却液出口管,以及多根穿设在进气装置主体上、下部的吹扫管;所述进气装置主体的后部穿过碳化硅外延生长设备的过渡区域。该进气装置可抑制反应气体的预反应。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 外延 生长 设备 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于季华实验室,未经季华实验室许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911379922.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种卫生间不降板同层排水系统
- 下一篇:一种卫生间不降板同层排水系统