[发明专利]一种高纯砷晶体的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911382195.X 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN110923457B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 董持衡;成者;涂畅;马衍伟 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: C22B7/00 分类号: C22B7/00;C22B9/00;C22B30/04
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 马小星
地址: 100190 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种高纯砷晶体的制备方法,属于原材料提纯技术领域。本发明在250~295℃进行第一阶段保温,有助于As2O5向As2O3转化;在300~460℃进行第二阶段保温,使砷原料表面的As2O3蒸发并随保护气排出提纯容器;在500~620℃进行第三阶段保温,使As升华形成砷蒸汽;再使提纯容器上、下部分温区按照不同的降温速率降温到300~460℃,使砷蒸汽可以缓慢凝结成晶体并长大,形成高纯砷晶体,同时砷原料表面及内部的As2O3仍然保持气体状态,并随保护气排出容器,从而将砷原料内的氧化物分离出来。本发明方法工艺简单,成本低廉,且生产的砷晶体纯度高,呈现金属光泽,氧含量小于0.5ppm。
搜索关键词: 一种 高纯 晶体 制备 方法
【主权项】:
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