[发明专利]一种闭合路径区域背景自定义填充和动态更新的方法在审
申请号: | 201911383381.5 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111143735A | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 蔡征兵;邱桃荣;林美波;刘军中;蔡志芳;曾怡;黎初显;黎江文;蔡志良;曾胜;舒志明 | 申请(专利权)人: | 广州盖特软件有限公司 |
主分类号: | G06F16/957 | 分类号: | G06F16/957;G06F16/958 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 汪帆 |
地址: | 510630 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种闭合路径区域背景自定义填充和动态更新的方法,在画布上绘制一个任意的闭合路径;框选闭合路径后,点击鼠标右键,显示选择图形操作功能菜单;选择填充图片后弹出用户选择图片路径窗口;用户选择好待填充图片后,点击确定按钮后,根据闭合路径所闭合的区域生成以用户选择的图片为背景的裁片cutPiece,并将cutPiece加入到图形容器shapevc中;修改闭合路径并同时更新背景图片显示范围的方法,框选裁片全部路径;左键单击锚点并拖动修改闭合路径,并判断shapevc中类型为裁片类型的cutPiece;如果符合上述判断条件,则保存此裁片中的背景图片数据imageData,并删除此裁片;待更新路径结束后,重新将imageData图片数据传入生成裁片的过程中。 | ||
搜索关键词: | 一种 闭合 路径 区域 背景 自定义 填充 动态 更新 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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