[发明专利]一种均匀镀膜方法、镀膜设备及计算机可读存储介质有效
| 申请号： | 201911383950.6 | 申请日： | 2019-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN111041441B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 王延超;刘震;杨海贵;高劲松;王笑夷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/46;C23C14/54 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种均匀镀膜方法、镀膜设备及计算机可读存储介质，该均匀镀膜方法包括以下步骤：(1)，根据待沉积光学元件的面形确定沉积源的第一沉积函数分布特性；(2)，根据待沉积光学元件的面形和沉积源的第一沉积函数分布特性确定沉积源的移动轨迹；(3)，获得沉积源的第二沉积函数分布特性；(4)，根据沉积源的第二沉积函数分布特性求解出沉积源移动过程中的移动状态；(5)，采用求解出的沉积源移动过程中的移动状态进行虚拟镀膜，获得虚拟镀膜结果；将虚拟镀膜结果和沉积源的实际沉积结果进行验证。沉积源可移动，沉积源的移动轨迹和移动状态可以被调节，效率高，适应性好。本发明应用于光学元件薄膜制备技术领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 镀膜 方法 设备 计算机 可读 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911383950.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
