[发明专利]一种基于空间整形的减反微纳结构阵列有效

专利信息
申请号: 201911386668.3 申请日: 2019-12-29
公开(公告)号: CN111123531B 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 李明;李珣;刘红军 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王少文
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种基于空间整形的减反微纳结构阵列,包括多个阵列排布的减反微纳结构,其表面形状为等边三角形或等腰梯形;阵列中相邻等边三角形的水平间距和垂直间距均为P;或者,阵列中相邻等腰梯形的水平间距和垂直间距均为P;P根据减反增透的波长具体确定。本发明解决了现有微纳结构阵列的微群孔阴影部分没有按照理论P值来分布导致的光谱带宽精度低的技术问题,其两类减反微纳结构阵列从各个方向均是按照理论P值来分布,因此提高了光谱带宽的选择精度,能更好满足减反透过率、光谱带宽、入射角等特性的需求。
搜索关键词: 一种 基于 空间 整形 减反微纳 结构 阵列
【主权项】:
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