[发明专利]一种光刻套刻标识设计方法有效
| 申请号： | 201911388384.8 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN110908256B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 张利斌;韦亚一;董立松;粟雅娟 | 申请（专利权）人： | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京中盟科创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32279 | 代理人： | 江冬萍 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明的一种光刻套刻标识设计方法，涉及集成电路工艺应用技术领域，包括步骤S01、设计曝光区域内部的套刻标识及其坐标，每个曝光区域内的套刻标识不少于10个，套刻标识的坐标设计均匀涵盖整个曝光区域；S02、设计曝光区域内部的测量坐标方式，通过互补型选点方式和综合型选点方式两种设计方式测量坐标；S03、对晶圆进行曝光，并在晶圆范围内筛选套刻误差的测量模型，在晶圆坐标系下，对所有曝光区域按照水平和垂直方向进行标号；S04、对套刻误差数据进行分析和计算，并反馈给自动控制系统，用于自动修正光刻设备参数，提高了测量的灵活性和数据的可靠性，提高反馈修正精度和套刻误差补偿精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 标识 设计 方法 | ||
【主权项】：
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