[发明专利]一种Mark点图形及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911390785.7 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111106199A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 王建;马群东;蔡凯;吴利军 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;H01L31/18;B23K26/364;B41M1/12;B41M1/26;B41M5/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 322118 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明属于电池制备技术领域,公开了一种Mark点图形及其制备方法,该Mark点图形包括多个同心圆,每个圆的外廓均为虚线,且内外相邻的两个圆的虚实部分交错对应。该制备方法包括:S1、激光设备根据预设坐标在电池片表面的四角处各画出一个预设直径的基圆;S2、在基圆的基础上由内向外进行同心圆式填充或螺旋线式填充得到Mark点基础图形;S3、设置虚实比,并选中Mark点基础图形进行激光打标得到Mark点图形。能有效减少重叠打标的现象,从而减少Mark点区域的损伤,在后续工序中Mark点图形更容易被识别,减少报警次数,同时减少打标时间,提升产能。
搜索关键词: 一种 mark 图形 及其 制备 方法
【主权项】:
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