[发明专利]一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置有效
| 申请号： | 201911391156.6 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN111077587B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 胡蔚萌 | 申请（专利权）人： | 武汉市陆刻科技有限公司 |
| 主分类号： | G01V9/00 | 分类号： | G01V9/00 |
| 代理公司： | 武汉红观专利代理事务所(普通合伙) 42247 | 代理人： | 张杰 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置。包括：将水井分为观测井以及抽水井两组，建立时间流速算法，获取待计算数据，根据时间流速算法进行计算，获取流速数值，根据该流速数值对抽水井进行抽水，记录所有水井内水位变化数据；设定比较数值阈值，根据观测井水位变化数值以及抽水井水位变化数值确定获取待比较数值，将比较数值阈值与待比较数值进行比较，根据比较结果对地下岩溶结构进行刻画。本发明通过将抽水井抽水流速设置为以时间为自变量的余弦函数，对观测井内水位变化值进行分析，结合抽水井内水位变化值(相位和振幅)，能够准确快速对地下岩溶结构进行精细刻画。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 地下 岩溶 结构 精细 刻画 方法 装置 | ||
【主权项】：
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