[发明专利]一种单光子雪崩二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911392746.0 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN110993710B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 孙德明 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;马盼
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开的一种单光子雪崩二极管,包括P型衬底,位于P型衬底上的高压N阱以及高压N阱之间的P型隔离区;位于高压N阱中的N型注入扩散层和P型注入扩散层;位于N型注入扩散层和P型注入扩散层周围的P型保护环和N型接触端;位于P型隔离区上方的浅沟槽隔离;位于浅沟槽隔离和P型保护环之间的环状P型浮置区,当N型接触端施加工作电压时,P型浮置区的耗尽区和浅沟槽隔离的耗尽区部分重合;且P型浮置区的耗尽区和P型保护环的耗尽区不重合;以及覆盖在高压N阱和浅沟槽隔离上方的介质层。本发明提供的一种单电子单光子雪崩二极管及其制备方法,可以增加二极管中感光面积,进而有效提高单电子单光子雪崩二极管的探测效率。
搜索关键词: 一种 光子 雪崩 二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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