[发明专利]一种高精度共晶键合设备在审
申请号: | 201911392998.3 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN110993541A | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 朱树存 | 申请(专利权)人: | 嘉兴景焱智能装备技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 杭州永航联科专利代理有限公司 33304 | 代理人: | 俞培锋 |
地址: | 314100 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明涉及光通讯领域基板上芯片共晶键合技术领域,一种高精度共晶键合设备,包括设备基座,所述设备基座上端设有物料区和键合区;所述物料区包括一可在XYZ轴方向进行移动的拾取头单元,所述键合区包括共用导轨、光栅尺且相互独立控制的前芯片键合臂和后芯片键合臂,所述键合区还包括设置于所述上料台右侧且可在X轴方向移动的前共晶加热台和后共晶加热台,所述前共晶加热台和后共晶加热台之间设有可在X轴方向移动的芯片中继台,所述芯片中继台的前侧还设有芯片倒装翻面头。本发明采用双键合头的新型高精度光通讯共晶键合机的布局方案,以满足正装及倒装共晶键合的高精度要求,并通过并行双头方案实现设备产率的极大提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 高精度 共晶键合 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于嘉兴景焱智能装备技术有限公司,未经嘉兴景焱智能装备技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911392998.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种具有压平功能的垫片冲压模具
- 下一篇:一种蒸烤箱及其清洗方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造