[发明专利]一种形状记忆合金径向梯度薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201911395862.8 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN111041421B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 王振龙;王振;张甲 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/02;C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 张金珠 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形状记忆合金径向梯度薄膜及其制备方法，属于功能梯度形状记忆合金薄膜领域。本发明要解决狭小空间中需要薄膜具备微小型、高致密性的技术问题。本发明方法：一、Si片依次用去离子水、丙酮、无水乙醇超声清洗；二、通过光刻技术将设计的图形转移到步骤一处理后的Si片上，保证Si片凹槽深度是薄膜单层厚度的奇数倍；三、采用双靶溅射的方式，在惰性气体保护下将Ti和Ni交替溅射到步骤二处理后的Si基片上，磨平；四、然后旋涂PMMA，再置于HF溶液中去除Si片，将突出部分磨平；五、然后置于丙酮溶液中去除PMMA；六、重结晶退火。本发明应用于生物医疗、航空航天等领域，传统记忆合金一般会实现单方向的弯曲，径向梯度薄膜可以实现多方向的弯曲。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 形状 记忆 合金 径向 梯度 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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