[发明专利]一种量子点发光二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911398448.2 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN113130833A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 郭煜林;吴龙佳;张天朔;李俊杰 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种量子点发光二极管及其制备方法,所述量子点发光二极管的制备方法,包括步骤:提供阳极;在所述阳极上形成量子点发光层;在所述量子点发光层上形成电子传输层,所述电子传输层包括叠层设置的ZnO层和ZnMgO层,所述ZnO层靠近所述量子点发光层一侧设置;在所述电子传输层上形成阴极,得到量子点发光二极管。本发明在不引入其他异质材料层的情况下,利用界面势垒可以调控电子注入,实现其与空穴注入的平衡。ZnMgO可调节电子传输层的禁带宽度,调节电子的注入势垒,降低电子的注入效率,可平衡电子‑空穴的注入,达到促进电子‑空穴在量子点发光层内有效的辐射复合的目的,进而提高器件的效率。
搜索关键词: 一种 量子 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
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