[发明专利]一种制备半导体性碳纳米管阵列薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 201911398594.5 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111056526A 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 曹宇;白兰 申请(专利权)人: 中国科学院空间应用工程与技术中心
主分类号: B81B7/04 分类号: B81B7/04;B81C1/00;C01B32/168
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 徐琪琦
地址: 100094*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种制备半导体性碳纳米管阵列薄膜的方法,属于碳纳米管电子学领域。本方法包括:取半导体性碳纳米管,溶解于易挥发有机溶剂中,得半导体性碳纳米管溶液;取与上述易挥发有机溶剂不互溶的第一溶剂,加入到半导体性碳纳米管溶液中,混匀后静置,待第一溶剂在碳纳米管溶液上形成清晰的两相界面后脱泡,得两相溶液;取基底,清洗烘干后,垂直浸入两相溶液中,再将基底从两相溶液中垂直拉出;清洗、吹干基底,得半导体性碳纳米管阵列薄膜。本发明制备的半导体性碳纳米管阵列薄膜,定向一致,排列均匀,重复性好,阵列密度高达100‑200根/μm,可提高碳纳米管器件的驱动电流等性能,推动碳纳米管阵列的产业化应用。
搜索关键词: 一种 制备 半导体 纳米 阵列 薄膜 方法
【主权项】:
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