[发明专利]反射激波波后双流场参数可控的基本流场及设计方法有效

专利信息
申请号: 201911402293.5 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111159899B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 乔文友;余安远;靳雨南;蒋斌;曲俐鹏;杨大伟 申请(专利权)人: 西南科技大学;中国空气动力研究与发展中心
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢;葛启函
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种反射激波波后双流场参数可控的基本流场及设计方法,包括如下步骤:1)设计入射激波2及其波后依赖域流场;2)设计等熵压缩段流场和反射激波7;3)设计反射激波7波后依赖域流场;4)设计整流区域流场;5)步骤1)~步骤4)中得到的入射激波波后依赖域流场、等熵压缩段流场和反射激波波后依赖域流场和整流区域流场在空间上依次连接构成了整个内转式进气道的基本流场。本发明能够在给定的入射激波形状下根据给定的反射激波波后任意两种流场参数设计基本流场构型,实现了根据下游流场参数设计基本流场的设计思想,有效提升基本流场和进气道的设计效率。
搜索关键词: 反射 激波 双流 参数 可控 基本 设计 方法
【主权项】:
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