[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 201911409281.5 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN113122147A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 周靖宇;马健;荆建芬;姚颖;杨俊雅;倪宇飞;汪国豪;黄悦锐;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明旨在提供一种用于含碳材料的抛光液及其使用方法。所述化学机械抛光液，包含磨料、氧化剂和有机膦酸，该抛光液在维持较高的含碳材料去除速率的同时，避免抛光过程的副产物在抛光垫上沉积，延长了抛光垫的使用寿命，降低了抛光后晶圆表面的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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