[发明专利]一种用于测量晶体在高压下溶解度的装置与方法有效
| 申请号： | 201911410916.3 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111077175B | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 贺端威;胡启威 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20;G01N23/20041;G01N23/20033;G01N23/20025 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种用于测量晶体在高压下溶解度的装置，包括压砧组件，所述压砧组件包括砧面相对的上压砧、下压砧，上压砧、下压砧之间设置密封垫，所述密封垫的内圈与所述上压砧、下压砧的砧面围成密封溶剂槽，所述溶剂池内填充溶剂，待测样品浸于溶剂内且设置于密封垫的内圈处，其中，所述待测样品由待测晶体与非溶基体混合后压致成型的块体，所述溶剂为待测晶体的饱和溶液。本发明提供的用于测量晶体在高压下溶解度的装置与方法，通过在压砧内部引入溶剂池的方法，可突破高压样品腔体积的限制，实现利用高压原位衍射(中子衍射及x衍射均可)直接测量晶态物质在高压下的溶解度这一目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 测量 晶体 压下 溶解度 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川大学，未经四川大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911410916.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
