[发明专利]一种器件匹配的高效散热半导体衬底及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911411764.9 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111129942A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 贾慧民;李星晨;郭德双;魏志鹏;晏长岭;李岩;房丹;林逢源;王晓华;马晓辉 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: H01S5/02 分类号: H01S5/02;H01S5/024;B82Y30/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 张敏
地址: 130022 吉林*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种器件匹配的高效散热半导体衬底及其制备方法,属于半导体技术领域。本发明提供的半导体衬底的背面设置有周期分布排列的凹槽,凹槽内填充有纳米导热材料,且凹槽的横截面尺寸小于器件芯片的横截面尺寸,即仅在凹槽区域有纳米导热材料,相邻凹槽之间预留有未覆盖纳米导热材料的区域,这样使得半导体衬底背面高导热部分与器件芯片尺寸相匹配,解理时沿着预留出的凹槽之间未覆盖纳米导热材料的衬底的中线解理即可,解决了现有半导体衬底背面制备导热薄膜时存在器件芯片解理难度较大易碎裂的问题;此外,在衬底背面设置凹槽,相当于减薄了衬底的厚度,降低了热阻,同时在凹槽中填充纳米导热材料,增大了衬底散热能力。
搜索关键词: 一种 器件 匹配 高效 散热 半导体 衬底 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长春理工大学,未经长春理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911411764.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top