[发明专利]具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统及等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201911412326.4 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112242289B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 李雪冬;刘海洋;刘小波;吴志浩;胡冬冬;许开东;陈璐 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 彭英 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统及等离子体处理方法。等离子体处理系统包括反应腔室、介质窗、法拉第屏蔽件以及进气喷嘴；法拉第屏蔽件置于所述介质窗外侧，并与介质窗沿中部位置处设置贯通孔；进气喷嘴包括中空导电连接件；导电连接件的内腔分别与进气喷嘴的进气侧、出气侧连通，而导电连接件的外缘则与法拉第屏蔽件导电连接；所述法拉第屏蔽件的射频功率通过导电连接件或法拉第屏蔽件自身加载。由此可知，本发明所述静电屏蔽件接通屏蔽电源以清洗介质窗时，导电连接件与静电屏蔽件的导电连接位置处的中心区域的电场强度较周边差值很小，能够形成强有效电场，从而达到彻底清洗此区域的技术目的。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 法拉第 屏蔽 装置 等离子体 处理 系统 方法 | ||
【主权项】：
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