[发明专利]一种纳米级和亚微米级金属粉体的制备方法有效
| 申请号： | 201911415090.X | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN113118450B | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 喻维杰;张锡强;赵常 | 申请（专利权）人： | 拓米（成都）应用技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | B22F9/20 | 分类号： | B22F9/20;B22F1/054 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 郎祺 |
| 地址： | 610000 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米级和亚微米级金属粉体的制备方法，包括步骤：步骤S1，提供一第一混合物，第一混合物包括纳米级高纯硅粉体、金属化合物和一辅助试剂；步骤S2，提供一研磨工艺处理第一混合物，得到一第一粉体；步骤S3，提供一烧结工艺处理第一粉体，得到一第二混合物；步骤S4，除去第二混合物中的多余的硅和/或硅化合物，得到一第二粉体；步骤S5，洗涤烘干第二粉体，得到纳米和亚微米级金属粉体。本发明将高还原性的纳米硅应用于纳米级和亚微米级金属粉体的制备，提供一种成本低、产量高的纳米级和亚微米级金属粉体的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 微米 金属 制备 方法 | ||
【主权项】：
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