[发明专利]采用DMD与液晶调制的曲面光刻方法有效
| 申请号： | 201911417378.0 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN111077741B | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 孙秀辉;尹韶云;江海波;陈建军;杨正;杜凯 | 申请（专利权）人： | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 杨柳岸 |
| 地址： | 400714 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明涉及采用DMD与液晶调制的曲面光刻方法，属于光刻技术领域。采用DMD作为数字灰度掩模调制器，对入射光的振幅进行调制，同时加入液晶作为相位调制器，对入射光的相位进行调制，从而将入射的平面波转化为特定波前的光束，然后再经过投影镜头，最终成像在曲面的光刻胶基底上，从而实现曲面光刻。由于引入DMD和液晶联合对光束进行调制，增加了系统的设计自由度，从而实现高效、高精度曲面光刻。为曲面微结构器件的广泛应用奠定一定的基础。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 dmd 液晶 调制 曲面 光刻 方法 | ||
【主权项】：
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