[发明专利]一种基于二维黑磷材料实现IGZO光电流调控的方法有效

专利信息
申请号: 201911421184.8 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111081820B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 南海燕;李大庆;邵枫;肖少庆;顾晓峰 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0336
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 彭素琴
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于二维黑磷材料实现IGZO光电流调控的方法,属于半导体器件领域。本发明提出了一种利用干法转移技术制备IGZO‑黑磷异质结构的方法,并且通过改变IGZO与黑磷之间的接触方式,可以实现IGZO对不同激光波长光电流响应的调控,该方法中IGZO沟道和电极都借助掩膜版进行磁控溅射,重复性好且能够实现大面积多器件的制备,黑磷样品通过机械剥离法制备,厚度和尺寸均可控制,异质结的制备利用干法转移技术,操作简单,可控性强。该发明有利于推动IGZO薄膜在微纳领域和半导体行业的发展。
搜索关键词: 一种 基于 二维 黑磷 材料 实现 igzo 电流 调控 方法
【主权项】:
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